由中國國家知識產(chǎn)權(quán)局、日本特許廳、韓國特許廳共同主辦的2010年中日韓外觀設(shè)計研討會日前在京舉行。中國國家知識產(chǎn)權(quán)局副局長賀化出席研討會開幕式并致辭。日本特許廳外觀設(shè)計課課長Kawasaki Toshitaka和韓國特許廳外觀設(shè)計課課長Joo Jung Kyu出席研討會開幕式。
賀化指出，中日韓三國有著長期友好的合作關(guān)系，在知識產(chǎn)權(quán)領(lǐng)域的合作也堪稱歷史悠久。外觀設(shè)計領(lǐng)域，日韓兩國在中國的申請量一直居于高位。中日韓三方在外觀設(shè)計領(lǐng)域的交流不僅具有重要的現(xiàn)實意義，而且對三局專利審查質(zhì)量的提高都將有重要影響。他希望通過此次研討，中日韓三方能進一步加深對外觀設(shè)計制度和審查實務(wù)的相互理解，為三局未來的深入合作打下良好的基礎(chǔ)。
會上，來自中日韓三局外觀設(shè)計領(lǐng)域50余位專家和代表圍繞外觀設(shè)計專利審查管理、授權(quán)實質(zhì)條件的審查標準、優(yōu)先權(quán)相同主題的認定等主題展開了深入研討。
據(jù)統(tǒng)計，近五年來，日本和韓國在華外觀設(shè)計專利申請量占外國在華申請量的40%以上，日本則長期處于申請量的第一位。
據(jù)了解，2009年12月，中日韓三國知識產(chǎn)權(quán)局局長在西安舉行了第九次政策對話會議，對三局未來的合作提出了新的計劃。此次研討正是在三局局長政策對話機制框架下，在外觀設(shè)計領(lǐng)域開展的一次重要交流活動。
