第六屆武漢·中國光谷知識產權論壇開幕式會場 攝影 趙東
11月2日，第六屆“武漢·中國光谷”知識產權保護論壇在武漢東湖新技術開發(fā)區(qū)科技會展中心隆重召開。來自美國、日本的知識產權專家和國家知識產權局、國家保護知識產權工作領導小組辦公室等單位的領導以“自主創(chuàng)新與知識產權國際保護”為主題，就企業(yè)關心的知識產權國際保護以及知識產權國際訴訟等問題展開深入討論。國家知識產權局副局長張勤、國家保護知識產權工作領導小組辦公室秘書長向欣、武漢市委常委、副市長袁善臘等有關領導出席會議并致辭。
張勤代表國家知識產權局在開幕式上致辭，他表示，自2001年以來，國家知識產權局和武漢市人民政府在國家級高新區(qū)——武漢東湖新技術開發(fā)區(qū)成功舉辦了五屆“武漢·中國光谷”知識產權保護論壇，對我國高新技術企業(yè)加強知識產權保護、提高知識產權意識起到積極作用，在國內外也產生了一定的反響。
張勤指出，近年來，注重自主創(chuàng)新和知識產權國際保護越來越受到世界各國的重視。國際經驗證明，一個國家要轉變傳統(tǒng)落后的增長方式，最根本的要靠增強自主創(chuàng)新能力。21世紀是知識經濟時代，時下世界經濟融為一體，企業(yè)的核心競爭力主要看這個企業(yè)是否擁有自主知識產權，從某種程度上說，未來的競爭就是知識產權的競爭。現階段我們重視知識產權工作，絕不只是一個保護的問題，更重要的是通過保護，加快完善知識產權制度，熟練掌握和運用知識產權規(guī)則，提高自主知識產權的創(chuàng)造、實施、管理水平和能力，沖破發(fā)達國家對我們的封鎖。
據介紹，本屆論壇由國家知識產權局、武漢市人民政府主辦，國家知識產權局協調管理司、武漢市保護知識產權工作領導小組辦公室、武漢東湖新技術開發(fā)區(qū)管委會、武漢市知識產權局、武漢市質量技術監(jiān)督局承辦。本屆論壇旨在切實提高我國高新技術企業(yè)國外市場競爭能力和知識產權國際保護水平，大力發(fā)展擁有自主知識產權的高新技術產業(yè)。本屆論壇以“層次高、影響大、范圍廣”為特色，成為武漢國際光電子信息技術博覽會暨論壇的一大亮點。
據悉，在本屆論壇上，國家保護知識產權工作領導小組辦公室秘書長向欣、美國法學博士脫穎、日本東北大學教授長平彰夫、美國康乃利律師事務所陸準、武漢市質量技術監(jiān)督局副局長吳祥永等官員、專家先后登臺，分別就加強知識產權保護，提高企業(yè)國際競爭能力；技術標準與自主創(chuàng)新；我國企業(yè)如何在國外取得知識產權保護；我國企業(yè)如何應對知識產權國際訴訟；國外跨國企業(yè)的知識產權戰(zhàn)略；光電子信息產業(yè)國際知識產權保護現狀和趨勢等議題進行了深入淺出的闡述，并與在座的代表開展了積極的交流和探討，他們的眾多觀點激起了近200名高新技術領域的優(yōu)秀企業(yè)代表的共鳴。
據了解，第五屆“中國光谷”國際光電子博覽會吸引了400余名來自俄羅斯、美國等國家和地區(qū)的嘉賓，以及十余名國內外知名院士參會。展覽規(guī)模超過歷屆任何一次。有韓國光谷之稱的韓國“大德谷”，將首次來漢展示；今年適逢“中俄友好年”，俄羅斯光電企業(yè)也會大量參會。第六屆“武漢·中國光谷”知識產權保護論壇安排在“光博會”期間召開，使人們在參加會議的同時，有機會了解到目前世界光電子產業(yè)的最新發(fā)展動向。（王佳 夏媛）
